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TE 制冷背照式光譜儀

簡要描述:SM303 TE 制冷背照式光譜儀是一款科研級,高性價比,高信噪比,高量子效率,低雜散光的光譜儀。是測量弱光源的優(yōu)秀選擇。SM303采用濱松 S10420-1106 背照式CCD,1024像素,具有較高的分辨率和靈敏度。在紫外波段表現(xiàn)尤為出色,而且動態(tài)范圍高。它可以提供850nm的測量范圍。有效光譜測量范圍:200-1050nm。

  • 產(chǎn)品型號:SM303
  • 更新時間:2025-03-12
  • 訪  問  量:1427

產(chǎn)品簡介

品牌其他品牌應用領域電子/電池

詳細介紹

SM303TE 制冷背照式光譜儀

        SM303 TE 制冷背照式光譜儀是一款科研級,高性價比,高信噪比,高量子效率,低雜散光的光譜儀。是測量弱光源的優(yōu)秀選擇。SM303采用濱松 S10420-1106 背照式CCD,1024像素,具有較高的分辨率和靈敏度。SM303 TE 制冷背照式光譜儀在紫外波段表現(xiàn)尤為出色,而且動態(tài)范圍高。它可以提供850nm的測量范圍。有效光譜測量范圍:200-1050nm。制冷型探測器通過降低噪聲水平可以探測到很低的信號光。

光譜儀軟件包括基于Windows的SM32光譜采集和分析軟件,以及SDK和DLLs供客戶自行開發(fā)。


應用領域:

  • 半導體工業(yè)過程診斷

  • 光源/ 頻譜分析樣本

  • 顏色/ 熒光測量

  • 生物/ 化學/ 生物化學/ 醫(yī)療的應用程序

  • 食和農(nóng)業(yè)/ 污染測量

  • 化工/ 塑料/ 聚合物分析

  • 石化/ 藥物分析



產(chǎn)品特點:


  • 科研級別高性能高性價比

  • 低暗電流噪聲和雜散光

  • 大的動態(tài)范圍和高信噪比

  • 高紫外量子效率

  • 由狹縫和光纖自由選擇輸入

  • 多功能設計

  • 高速數(shù)據(jù)采集

  • 測量范圍200-1050nm

產(chǎn)品參數(shù):

FeatureValue
DetectorsHamamatsu S7031-1006 back-thinned CCD
  • Number of Pixels: 1024 X 58

  • Sensing Pixel Size: 24µm x 24µm

  • Pixel well depth: 300Ke- (Vertical) 600 Ke- (Horizontal)

  • Quantum efficiency: >90% @650nm, 65% @250nm

  • Sensitivity: ~0.065 counts/e-

  • Cooling: One-stage TE-Cooled (-10°C)

Spectrograph f#3.3
Dark Noise RMS<2 RMS counts in 16bit @35msec integration time
Signal to Noise Ratio>1000: 1
Fiber CouplerSMA905 or FC standard
Effective Spectral Range200 to 1050nm
Order Sorting FilterLongpass filter or linear variable filter installed per wavelength coverage
Spectral Resolution0.15 to 10nm depending on the slit and grating choices
Stray Light<0.01% at 632nm (<0.05% Ave)
Computer interfaceUSB 1.1/2.0 16 bit (0-65535), support up to 8 multi-channel configuration
Minimum integration time7msec
Trigger ModeFree Run Mode
Software Trigger Mode
External trigger mode (9-pin connector)
: TTL Edge trigger input/digital output for monitoring
Dimensions (inches)9.13 H X 5.12 W X 3.56 D
Weight7 lbs.
SoftwareSM32Pro (free with spectrometer)
Includes DLL libraries and SDKs for easy custom application development


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